近期,弥尔光半导体完成天使轮融资,华为哈勃出现在新增股东名单中。这家成立仅四年、此前几乎毫无声量的初创公司,专注的正是磷化铟高速光芯片。
这一笔工商变更,指向一个正在发生的产业动向:从上游衬底到下游光芯片,华为正在磷化铟产业链上进行布局。而触发这一动作的现实背景是——2026年全球磷化铟供需缺口预计超过70%,且仍在扩大。
一颗不起眼的化合物半导体,正在成为AI算力大爆发时代的关键瓶颈。
磷化铟到底是什么?
在AI数据中心内部,数以万计的光模块承担着GPU之间的高速互联任务。而驱动这些光模块发出激光信号的,正是以磷化铟为基底的激光器芯片。
在长距离、高速率的光通信中,它是目前唯一实现大规模商用的光源衬底材料。 无论是主流的EML方案,还是新兴的硅光方案,都必须依赖磷化铟激光器提供光源。
在传统分立的EML芯片中,单颗800G光模块需要消耗4至8颗磷化铟激光器芯片。升级到1.6T后,单模块消耗的磷化铟面积几乎是原来的2.8倍。英伟达预测,2026至2030年全球磷化铟晶圆需求将激增约20倍。
这是光通信物理底层绕不过去的硬约束。没有磷化铟芯片,光模块就是一块电子砖头。
近乎“断裂式”的供需缺口:价格暴涨200%、缺口超70%
2025年全球磷化铟衬底(2英寸)总需求约200至210万片,有效合规产能仅60至70万片;2026年需求飙升至260至300万片,全球有效产能仅提升至约75万片,缺口超过70%,并且有进一步扩大的趋势。
价格端信号更为直观。2025年初,一片2英寸磷化铟衬底的市场价约800美元。到2026年4月,这个数字已经飙升至2300至2500美元,急单现货价甚至突破3000美元。6英寸高端衬底则从1400美元蹿升至5000美元以上,涨幅超250%。
面对上述需求,供应端也“束手无措”。在全球半导体制造领域,磷化铟的生产堪称效率“黑洞”:
磷化铟单晶生长需要在密封、高温高压的环境中以极其缓慢的速度进行,过程完全不可见,工艺调试只能靠经验摸索,“黑盒子效应”极其严重。
良率极低,6英寸衬底量产良率至今仍在低位艰难爬坡。一条产线从建设到良率爬坡至少需要18至24个月,核心单晶生长炉等设备的交付周期更长达1至2年。
即使此刻开始扩产,最早的产能释放也要等到2027年底,远水难救近火。
短缺倒逼替代:硅光和薄膜铌酸锂崛起
磷化铟的极端短缺,正在加速倒逼整个光通信产业链寻找替代方案。目前业界公认:硅光子技术和薄膜铌酸锂,正分别从集成度、调制效率等不同维度,对磷化铟的传统应用领域发起实质性冲击。
硅光方案受益于CMOS兼容工艺,成本低、集成度高且量产速度快,已在800G至1.6T数据中心短距离(2km以内)传输场景中实现批量出货;薄膜铌酸锂则以以超过170GHz的超高带宽,及其调制器功耗仅为磷化铟调制器约三分之一,在3.2T及6.4T等超高速场景中展现出调制优势。
举个例子,磷化铟相当于发动机,硅光和薄膜铌酸锂分别为车身和变速箱。以前整个动力全由磷化铟包揽,现在车身和变速箱换成更便宜或者更快的材料,但是发动机不会被扔掉。磷化铟的角色,正从“全场核心”收窄为“关键组件”,但地位依然根基牢固。
资本抢跑:巨头锁定产能、国产快速追赶
在巨大的供需缺口和持续上涨的价格之下,资本市场率先做出了最激进的反应。
英伟达已经以数十亿美元级别提前锁定CPO所需的大功率激光器与光源产能;Lumentum等具备全栈垂直整合能力(从芯片设计、磷化铟晶圆制造到光模块封装)的龙头厂商,正在将数亿美元的订单积压转化为未来三至五年的业绩高确定性增长。
国内企业也在加速产业链自主可控。云南锗业凭借其控股子公司鑫耀半导体在磷化铟衬底领域的技术突破(国内首家实现6英寸量产的企业),股价自2026年以来累计涨幅超过200%,市值跃升至600亿元以上。
然而,打开这家公司的财务报表,业绩呈现出反差现象:2025年全年,云南锗业磷化铟相关营收仅1.38亿元,归母净利润仅2014万元。600亿市值对应去年利润,静态市盈率超过3000倍。这种极端估值背后,定价的并非过去,而是市场对2026年磷化铟价格飙升、国产替代放量后业绩将出现爆发式增长的强烈预期。

此外,当前国产衬底在良率和纯度上与国际领先产品仍存在一定差距,正处于快速追赶阶段。
结语
关于磷化铟的故事,从一颗合格的晶体,到数据中心里稳定发光的光源,中间还隔着良率、产能和时间的漫长距离。硅光和薄膜铌酸锂的出现,让这场竞赛的变量更多,但它们的存在不是磷化铟的终章,反而更加印证了“发动机”角色的不可替代。故事的下一章,将不再只是需求的单边狂飙,而是谁能率先在技术追赶与规模量产之间,找到那个至关重要的平衡点。
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